网友提问 :23年半年报知悉,贵司生产和销售半导体湿法工艺流程所需的包括清洗机、烘箱、刻蚀机、涂胶显影机、去胶机、分片机等大部分设备,产品线较为丰富。请问贵司,在助力国内光刻机事业突破卡脖子技术难题方面,支持多少纳米工艺制程?

2023-09-19 15:06:32

至正股份 (603991): 回答:尊敬的投资者您好,感谢您对公司的关注!公司控股子公司苏州桔云生产的设备主要用于半导体后道先进封装领域,不涉及光刻机。

2023-09-19 15:06:32

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至正股份
法定名称:
深圳至正高分子材料股份有限公司
公司简介:
公司前身为"上海至正潘德那聚合物有限公司",成立于2004年12月27日。
经营范围:
电线电缆、光缆用绿色环保型聚烯烃高分子材料的研发、生产和销售。
注册地址
广东省深圳市南山区恩平街1号华侨城东部工业区E4栋304
办公地址
上海市闵行区莘庄工业区北横沙河路268号

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